章引言 1.1無(wú)機(jī)閃爍材料研究歷史 1.2無(wú)機(jī)閃爍材料的應(yīng)用及其要求 參考文獻(xiàn) 章閃爍材料制備方法概述 2.1無(wú)機(jī)閃爍晶體生長(zhǎng)方法簡(jiǎn)介 2.2無(wú)機(jī)閃爍陶瓷制備方法概述… 2.3摻雜與分凝系數(shù)，氣氛控制與后處理 參考文獻(xiàn) 第三章閃爍材料能表征方法· 3.1閃爍發(fā)光的物理過(guò)程概述 3.2光學(xué)能 3.2.1光學(xué)透過(guò)率 3.2.2透過(guò)率、吸收與光衰長(zhǎng)度的關(guān)系 3.3閃爍發(fā)光光譜 3.4光輸出與光產(chǎn)額 3.4.1光電倍增管的單光電子峰校準(zhǔn)與光輸出計(jì)量 3.4.2 光電倍增管的量子效率與發(fā)光權(quán)重的量子效率 3.4.3APD的校準(zhǔn) 3.4.4 光輸出的溫度系數(shù)與溫度校正 3.4.5自吸收效應(yīng)對(duì)光輸出的影響 3.4.6光收集效率 3.5光響應(yīng)均勻 3.6能量分辨率 3.7光輸出與能量分辨率的非線 3.8閃爍材料的時(shí)間參數(shù) 3.8.1上升時(shí)間與衰減時(shí)間 3.8.2時(shí)間分辨率 3.9閃爍余輝 3.10閃爍相關(guān)固有物理參數(shù) 參考文獻(xiàn)· 第四章 閃爍材料的輻照損傷 4.1劑量率依賴 4.2輻照損傷的計(jì)量 4.3光輸出的損傷與恢復(fù) 4.4 光學(xué)透過(guò)率的損傷與恢復(fù) 4.5輻照誘導(dǎo)色心的濃度 4.6輻照對(duì)光響應(yīng)均勻的影響 4.7 雜質(zhì)離子與輻照誘導(dǎo)色心 4.8輻照誘導(dǎo)余輝 4.9輻照損傷與閃爍發(fā)光機(jī)制 參考文獻(xiàn)· 第五章閃爍晶體研發(fā)實(shí)例 5.1鎢酸鉛晶體下降法生長(zhǎng)與能改善 5.1.1生長(zhǎng)方向選擇 5.1.2原料與摻雜 5.1.3釔摻雜鎢酸鉛晶體的輻照硬度 5.1.4高光輸出鎢酸鉛 5.2硅酸釔镥（LYSO）閃爍晶體研發(fā) 5.2.1LYSO晶體的提拉法生長(zhǎng) 5.2.2 鈰離子濃度與光學(xué)能、閃爍能的關(guān)系 5.2.3鈰離子在大尺晶體中的分布 5.2.4LYSO晶體能量分辨率與閃爍余輝的改善· 參考文獻(xiàn) 后記